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項目研制
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磁場輔助批量化拋光設(shè)備
磁場輔助批量化拋光設(shè)備
功能介紹

該系列設(shè)備為高精度批量化拋光設(shè)計的智能化設(shè)備，適用于金屬制樣、異形金屬工件(醫(yī)療器械、模具、高端刀具)及小型光學(xué)玻璃元件的表面處理。設(shè)備采用模塊化設(shè)計,集成智能控制系統(tǒng)與磁場輔助批量化拋光工藝,滿足實驗室及加工車間的高效、高精度需求。

【設(shè)備亮點】

1.創(chuàng)新技術(shù)

※可實現(xiàn)曲面元件批量拋光且同步達(dá)到納米級表面粗糙度與微米級保形精度的技術(shù)。

※可同時拋光幾十甚至數(shù)百件工件。

2.應(yīng)用領(lǐng)域廣泛

※用于金屬制樣、醫(yī)療器械(手術(shù)器械/植入物)、高端刀具(硬質(zhì)合金刀具)、光學(xué)元件(鏡片/光學(xué)模具)、航空航天、半導(dǎo)體及奢侈品制造等高端領(lǐng)域。

※根據(jù)客戶的具體需求提供定制化方案。


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郵箱lzzkkh@licp.cas.cn
電話蔣工：13609382552
電話王工：15117025700
技術(shù)指標(biāo)
單軸拋光系統(tǒng)MAMP-100
拋光工件類型尺寸（mm）重量（Kg）電功率（W）
單面工件拋光500*400*600651000
電機轉(zhuǎn)速（RPM）額定轉(zhuǎn)矩（Nm）工作溫度（℃）工作濕度（％）
0-20004.770-405-90


雙軸拋光系統(tǒng)MAMP-2-150
拋光工件類型尺寸（mm）重量（kg）電機功率
回轉(zhuǎn)類工件拋光500*400*10001001000/750
電機轉(zhuǎn)速（RPM）額定轉(zhuǎn)矩（Nm）工作溫度（℃）工作濕度（％）
0-2000/0-30004.77/2.40-405-90